濕式蝕刻
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晶湛國際光電股份有限公司
1.精密噴砂&玻璃&陶瓷&晶圓&石墨等&脆性材料&微細孔&圖案貫穿&非貫穿&沉孔&加工. 2.OGS玻璃 Cover Lens加工. 3.精密噴砂技術指導 4.精密噴砂機設計&製作. 5.玻璃濕式蝕刻減薄/表面瑕疵再研磨/切割/倒角/細微孔/表面微結構/防眩AG 等...生產線規劃&技術指導. 晶湛國際光電(股) 網頁: www.toptik.net tomo.liu@ms
地址：桃園縣龍潭鄉工二路298巷21號2F 電話：03-4704441
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千謄半導體設備製造開發有限公司
1999年至2001以半導體設備代工支援服務業界設備商。 2002年為服務半導體業界以及提供更完善之技術支援。 成立千謄半導體設備製造開發有限公司。 以濕製程清洗蝕刻設備及塗佈機,供輸系統為主要產品，服務業界。千謄半導體設備製造開發有限公司
地址：新竹市北區牛埔南路522號 電話：03-5403878
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迅富科技股份有限公司
晶圓旋乾機(Spin Rinse Dryer)、中央供酸系統、供酸櫃、半導體濕製程-蝕刻/顯影/清洗/去光阻/去蠟/SPM/SC1/SC2-清洗工作站、切拋磨後清洗設備、PSS高溫硫磷酸濕式蝕刻機、濕式化學鍍鈀清洗機、電鍍金鎳銅清洗機
地址：新竹市香山區埔前路280號 電話：03-5303977
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吉揚企業社
濕製程設備：本機台傳動打破一般做法，改採不銹鋼齒輪傳動，將可 顯影槽過濾網採用容易拆卸，清洗簡便快速。 提昇使用後快速方便保養及維修，省時又方便，輸送平穩 ，聲音小。冷風出口處採用分離式管路配法，風量穩定， 平移式擺動，噴管保養容易，採用軟管，耐溫、柔軟性佳。 軟管採用耐溫進口品質佳。 PVC-PTE-PP各式球閥、配件.各式滾桶、電滾、過濾、配件‧濕製程設備、內外層板、 顯影/蝕刻機
地址：新北市鶯歌區二橋街82巷1號 電話：022-6776832
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典宥科技有限公司
各式PCB化學品買賣,顯影液,蝕刻液,剝膜液,綠漆剝除劑及鹽酸硫酸等大宗原物料買賣
地址：桃園縣平鎮市雙連里雙福路3段263號 電話：03-4204990
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宏濂科技有限公司
Holian-tech由專業半導體人員所成立.其中以黃光設備與濕製程設備及量測機台為主.其產業包括半導體6" ~ 12" 設備, LED設備, touch panel設備,太陽能設備...等.宏濂科技除了擁有設備機台技術外,更以已自豪的事,了解各產業製程.選擇宏濂科技Holian-tech,無論是設備機台與製程都有完善的專業服務.
地址：新竹縣湖口鄉仁興路125號 電話：03-5971818
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旺力達有限公司
位於台灣桃園縣，營業項目晶圓/Water/玻璃加工:蝕刻,減薄,切割,研磨製程，背蓋玻璃加工，不顯光玻璃，精密噴砂，蝕刻加工減薄，面板減薄，玻璃減薄，手機輕薄化，耐噴砂塗料，耐化學蝕刻光阻劑。
地址：桃園縣龍潭鄉烏林村中豐路533巷138號 電話：03-4096871
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翰台科技有限公司
翰台科技是一家專業廠商我們有極優秀的人才做為後盾無論在設備維修或結構改造方面實務経驗非常豐富主要客戶有tsmc,umc專攻半導體蝕刻設備維修,改造,零件代尋,石英製品維修,翰台也是日本知名超音波経銷商,無論各個產業上所使用的超音波皆有相關,希望有機會能夠為大家服務,共創雙贏
地址： 電話：06-5985372
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台灣瑞納科技有限公司 RENA
台灣瑞納科技RENA生產製造化學蝕刻機台, 主要應用於太陽能電池及半導體相關產業,同時提供製程協助.目前全亞洲太陽能電池, 蝕刻機台之最大供應商. RENA is a sought-after partner in the photovoltaic and semiconductor industry, in electroplating and in medical technology. W
地址：新竹縣竹北市嘉豐五路二段128號 電話：03-5505855
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合江工業廠股份有限公司
合江工業廠股份有限公司位於桃園縣觀音工業區內 金屬蝕刻液，水處理沈澱劑，氯化亞鐵、氯化鐵、酸性蝕刻液生產銷售回收再利用
地址：桃園縣觀音鄉觀音工業區經建三路5號 電話：03-4837583
濕式蝕刻相關網站
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光凸塊下金屬的濕式蝕刻 - 《半導體科技．先進封裝與測試》雜誌
所以，若沒有過度蝕刻，則完成蝕刻的1mm厚的金屬圖案寬度尺寸將縮減約2mm。所以，罩幕上的尺寸大小就被設計用來補償濕蝕刻的效應。當採用無過度蝕刻時間的等向性蝕刻製程，金屬側壁約呈45度，而最上層在側向的蝕刻時間最長。
網址：ssttpro.acesuppliers.com
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濕式蝕刻槽
濕式蝕刻槽 [ Wet bench ] (最後修正日:2010.09.19) 一、 儀器名稱： 中文名稱： 濕式蝕刻槽 英文名稱： Wet bench
網址：khvic.nsysu.edu.tw
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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 光凸塊下金屬的濕式蝕刻 - Semicondutor Magazine
所以，若沒有過度蝕刻，則完成蝕刻的1mm厚的金屬圖案寬度尺寸將縮減約2mm。所以，罩幕上的尺寸大小就被設計用來補償濕蝕刻的效應。 當採用無過度蝕刻時間的等向性蝕刻製程，金屬側壁約呈45度，而最上層在側向的蝕刻時間最長。
網址：ssttpro.acesuppliers.com
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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 增加單晶圓濕式蝕刻製程的用途 - Semicondutor Magazine
Ricardo Fuentes, MATECH, Poughkeepsie, New York, United States 儘管乾蝕刻製程在部分的製程中已取得重要的地位，在半導體元件製程以及許多其他相關的技術中，例如微機電系統及光伏元件製造，濕蝕刻仍然是一個主要的技術。濕蝕刻製程常用於半導體的元件製造 ...
網址：ssttpro.acesuppliers.com
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濕式蝕刻製程提高LED光萃取效率之產能與良率_LEDinside – LED, LED照明, LED交易, LED研究報告, LED市場, 所有LED專業 ...
圖12、弘塑科技設計製作之高溫磷酸濕式蝕刻自動化量產設備。 5、 結論 本文已針對藍寶石基板之高溫磷酸濕式蝕刻製程，以及其製程設備在設計製作上必須考慮哪些因素，進行詳細探討。由於LED之藍寶石基板化學濕式蝕刻製程，可藉由基板表面幾何圖形之 ...
網址：www.ledinside.com.tw
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3‧ 半導體化學濕式蝕刻設備、濕式清洗設備。
3‧ 半導體化學濕式蝕刻設備、濕式清洗設備。 濕式蝕刻設備 ,濕式清洗設備,無塵室週邊設備,實驗室設備,廢藥液收集設備,化學桶槽及其它相關設備 詳述如下。
網址：www.guanway.com.tw
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[佳宸科技有限公司]-半導體製程設備 Semiconductor Process Equipment,專利公自轉濕式蝕刻機 Patent Rotation and Revolution Wet ...
濕蝕刻製程常用於半導體的元件製造, 金屬化和封裝, 以及光電 LED 產業等領域。在半導體製程中，濕蝕刻通常是最快且最具成本效率的選擇性或全面性地移除表面材料的方法。 但傳統濕蝕刻機的現存缺點如 蝕刻均勻性， undercut 及二次污染等問題，在佳宸開發的 ...
網址：www.semtekcorp.com
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[佳宸科技有限公司]-專利濕式蝕刻機,自動化專用機,太陽能設備,目檢機,測試分類機 ,測試機,影像檢測設備設計 ...
[佳宸科技有限公司]-專精於半導體製程設備 Semiconductor Process Equipment、如專利公自轉濕式蝕刻機 Patent Rotation and Revolution Wet Spray Etcher、12吋有機溶劑清洗機 12 inches IPA Cleaner、晶圓熱壓機 Wafer Bonder、晶圓清洗機 Wafer Cleaner、光罩清洗機 Mask Cle
網址：www.semtekcorp.com
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精密蝕刻設備:水平蝕刻機,立式蝕刻機,蝕刻線等
精密蝕刻設備:水平蝕刻機,立式蝕刻機,蝕刻線等各種精密蝕刻設備 ... 功能分類 ·覆膜設備 ·幹燥設備 ·濕法顯影設備 ·曝光設備 ·金屬蝕刻設備 ·濕法去膜設備 ·表面處理設備
網址：www.etching.tw
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歡迎光臨~奈米實驗教學網--奈米球之乾式蝕刻
乾式蝕刻根據電漿使用的特性可以分為三種機制： (1) 物理性蝕刻 基板置於帶負電的陰極之上，因此當帶正電荷的離子被陰極吸引並加速向陰極方向前進時，會以垂直角度撞擊到基板表面，由於直接以電漿離子加速轟擊，導致垂直方向的的蝕刻速率比橫向的 ...
網址：www2.nuk.edu.tw
