RO膜元件是反滲透設備系統中最重要的部分，其日常維護的好壞直接影響到系統出水水質的好壞，這裡對於反滲透膜的清洗方法加以概述，系統說明反滲透膜在運行中可能出現的汙染物以及相對應的清洗方法。
方法/步驟
一、細菌汙染
一般特徵：脫鹽率可能降低、系統壓降明顯增加、系統產水量明顯降低
清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C；0.1%NaOH和0.03%SDS，PH=11.5。
二、硫酸鈣汙染
一般特徵：脫鹽率明顯降低、系統壓降稍有或適度增加、系統產水量稍有降低 清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C；有時也可用PH小於10的NaOH水溶液清洗。
三、有機物沉澱
一般特徵：脫鹽率可能降低、系統壓降逐漸升高、系統產水量逐漸降低
清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴重時更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C。
四、氧化物/氫氧化物（鐵、鎳、銅）汙染
一般特徵： 脫鹽率明顯下降、系統壓降明顯升高、系統產水量明顯降低
清洗方法：氨水調PH值4,2%的檸檬酸溶液，溫度40C，有時也可以用PH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清洗。
五、無機鹽沉澱物汙染
一般特徵： 脫鹽率明顯下降、系統壓降增加、系統產水量稍降
清洗方法： 2%檸檬酸溶液，氨水調PH值4，溫度40C，也可用PH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清洗。
六、各種膠體（鐵、有機物及硅膠體）汙染
一般特徵： 脫鹽率稍有將低、系統壓降稍有上升、系統產水量逐漸減少。
清洗方法：硫酸調PH值10,0.2%三聚磷酸鈉STTP溶液，溫度40C；有時也可以用PH小於10的NaOH水溶液清洗。
注意事項
前置處理器要經常沖洗，確保反滲透進水水質達標。
反滲透膜元件根據出水水質情況確定清洗週期。