icp蝕刻

  • 旺力達有限公司


    位於台灣桃園縣,營業項目晶圓/Water/玻璃加工:蝕刻,減薄,切割,研磨製程,背蓋玻璃加工,不顯光玻璃,精密噴砂,蝕刻加工減薄,面板減薄,玻璃減薄,手機輕薄化,耐噴砂塗料,耐化學蝕刻光阻劑。
    地址:桃園縣龍潭鄉烏林村中豐路533巷138號 電話:03-4096871


  • 千謄半導體設備製造開發有限公司


    1999年至2001以半導體設備代工支援服務業界設備商。 2002年為服務半導體業界以及提供更完善之技術支援。 成立千謄半導體設備製造開發有限公司。 以濕製程清洗蝕刻設備及塗佈機,供輸系統為主要產品,服務業界。千謄半導體設備製造開發有限公司
    地址:新竹市北區牛埔南路522號 電話:03-5403878


  • 翰台科技有限公司


    翰台科技是一家專業廠商我們有極優秀的人才做為後盾無論在設備維修或結構改造方面實務経驗非常豐富主要客戶有tsmc,umc專攻半導體蝕刻設備維修,改造,零件代尋,石英製品維修,翰台也是日本知名超音波経銷商,無論各個產業上所使用的超音波皆有相關,希望有機會能夠為大家服務,共創雙贏
    地址: 電話:06-5985372


  • 台灣瑞納科技有限公司 RENA


    台灣瑞納科技RENA生產製造化學蝕刻機台, 主要應用於太陽能電池及半導體相關產業,同時提供製程協助.目前全亞洲太陽能電池, 蝕刻機台之最大供應商. RENA is a sought-after partner in the photovoltaic and semiconductor industry, in electroplating and in medical technology. W
    地址:新竹縣竹北市嘉豐五路二段128號 電話:03-5505855


  • 典宥科技有限公司


    各式PCB化學品買賣,顯影液,蝕刻液,剝膜液,綠漆剝除劑及鹽酸硫酸等大宗原物料買賣
    地址:桃園縣平鎮市雙連里雙福路3段263號 電話:03-4204990


  • 合江工業廠股份有限公司


    合江工業廠股份有限公司位於桃園縣觀音工業區內 金屬蝕刻液,水處理沈澱劑,氯化亞鐵、氯化鐵、酸性蝕刻液生產銷售回收再利用
    地址:桃園縣觀音鄉觀音工業區經建三路5號 電話:03-4837583


  • 晶湛國際光電股份有限公司


    1.精密噴砂&玻璃&陶瓷&晶圓&石墨等&脆性材料&微細孔&圖案貫穿&非貫穿&沉孔&加工. 2.OGS玻璃 Cover Lens加工. 3.精密噴砂技術指導 4.精密噴砂機設計&製作. 5.玻璃濕式蝕刻減薄/表面瑕疵再研磨/切割/倒角/細微孔/表面微結構/防眩AG 等...生產線規劃&技術指導. 晶湛國際光電(股) 網頁: www.toptik.net tomo.liu@ms
    地址:桃園縣龍潭鄉工二路298巷21號2F 電話:03-4704441


  • 帝律有限公司


    經營項目:蝕刻室防蝕隔間 空污防制設備(濕式洗滌塔、活性碳吸附塔)。  風管配管安裝(PP、PVC、SUS全焊管及螺旋管、鍍鋅螺旋管)。  機台Exhaust hook-up配管。  各式PP、PVC、SCH80管路配管工程。  洗滌塔清洗。  風機及泵浦維修保養。 FRP內襯、Epoxy地坪。 水電配管工程。
    地址:桃園縣中壢市興和里17鄰下興南42-7號 電話:03-4553818


  • 崧源生技有限公司


    本公司團隊在半導體界服務超過20年以上的經驗 不論要購機 修改 維護 零件取得 歡迎洽詢崧源生技有限公司 Sung Yuan Biotechnology Co., Ltd. 提供 爐管機台、修改、維護、零件,半導體、工業、太陽能爐管,UV殺菌設備、燈泡,UV Curing設備,UV Coating設備,單晶片蝕刻機、塗佈機,加熱元件,流量控制器,氣體用閥件供應,各種燈泡供應、聲表面波元件、
    地址:新竹縣芎林鄉上山村文山路818號 電話:03-5122096


  • 鑫祥科技有限公司


    服務領域: 代理銷售: 1.藍寶石長晶爐設備銷售。30ky /35ky /65ky TYPE 設計製造部: 1)2、4、6inch 藍寶石基板專用、水平式高產能旋乾機。 (中國,台灣專利) 2)2、4、6、8inch Wet Bench製造。 3)2、4、6、8inch cassette Clean 自動清洗機製造。 二手設備部: 1.OLYMPUS 金相顯微鏡,AUTO L
    地址:新竹縣竹北市沿河街193-3號 電話:03-5510529


icp蝕刻相關網站

  • ICP蝕刻所用的SF6與矽的反應式? - Yahoo!奇摩知識+


    微機電製程中 乾蝕刻時ICP蝕刻所用的SF6與矽的反應式? ... ICP系統為利用蝕刻與高分子鈍化保護交替的製程,稱為Bosch Process,圖 二為原理示意圖,圖 二(a)為利用C4F8離子雲團(radical)在矽晶圓上生成一高分子鈍化層之後再轉換成蝕刻製程,第一階段 ...
    網址:tw.knowledge.yahoo.com

  • icp蝕刻相關網站及資料推薦 - 【YAMAB2B】


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  • ICP-RIE(感應耦合式蝕刻機)


    ICP-RIE(感應耦合式蝕刻機) 儀器規格: Oxford Plasmalab System 100 服務項目: ICP之蝕刻種類為III-V族材料 收費辦法: 校內:4,000NT/hr+1,000NT/次 校外:8,000 NT/hr+2,000NT/次 試片準備: 限制特定半導體,須經指導教授核可
    網址:www.ora.nsysu.edu.tw

  • 國立台灣大學資電中心感應式電漿蝕刻機(ICP-RIE)管理規範與收費標準


    l ICP-RIE 機台只能蝕刻三五族半導體之材料 (可接受微量四族摻雜之樣品),禁止含有磁性物質或其它材料進入,違者取消使用資格;如造成機台污染,另追究賠償責任。 l PECVD 機台為三五族半導體基板專用,禁止含有磁性物質或其它材料進入,違 ...
    網址:ec.rdo.ntu.edu.tw

  • 感應耦合電漿離子蝕刻技術 (II) Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etch (II)


    感應耦合電漿離子蝕刻技術 (II) Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etch (II) 簡介 感應耦合電漿離子蝕刻系統包含非等向性蝕刻、保護製程及等向性蝕刻,Dry SCREAM 製程技術利用上述特性,只需一道黃光製程及接續的 ICP 製程即能製作出懸浮結構,相較於其他 ...
    網址:www.itrc.narl.org.tw

  • 有關半導體廠的蝕刻部門 - Yahoo!奇摩知識+


    濕蝕刻一般是用在大量,高選擇比,低方向性低深度的蝕刻,因為水分子的表面張力問題一般很難吃深。一般低選擇比,高深度的蝕刻就會用離子蝕刻。一般有TCP,ECP,ICP等方式。因為這些蝕刻方式方向性很強。
    網址:tw.knowledge.yahoo.com

  • 半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 面向光學微機電系統的乾式蝕刻矽與二氧化矽 - Semicondutor Magazine


    我們還描述了各種能夠提供晶圓穿透加工性能的二氧化矽(SiO2)乾式蝕刻製程,該製程擁有比過去報道的更高的蝕刻率和更大的縱橫比(aspect ratio)。 我們在這裏所描述的工作使用了兩種電感耦合等離子體(inductively coupled plasma, ICP)蝕刻源:
    網址:ssttpro.acesuppliers.com

  • 高密度電漿蝕刻


    ... 聚昌科技Cirie-200高密度電漿蝕刻系統,係針對2~6吋ⅢⅤ族砷化鎵MMIC、GaN藍光LED、LD、VCSEL、HBT製造廠商,提供高效能、高可靠度蝕刻 ... ICP Power 1000 ~ 2500 W (Option) Bias Power 300 ~ 600 W (Option) Wafer Numbers / Size (13 - 1) pcs / (2"- 8
    網址:www.ast-taiwan.com.tw

  • 第九章 蝕刻技術


    第九章 蝕刻技術 (Etching Technology) 9-1 前言 蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。 蝕刻技術可以分為『濕蝕刻』 (wet etching) 及『乾蝕刻』 (dry etching) 兩類。在濕蝕刻中是使用化學溶液,經由化學反應以達到蝕刻的目的 ...
    網址:elearning.stut.edu.tw

  • 高密度活性離子蝕刻系統


    中文名稱 高密度活性離子蝕刻系統 英文名稱 HDP-RIE 儀器廠牌型號 慶康科技 購置年限 1997 年 功能 乾式蝕刻,以蝕刻Al材料為主 放置地點 固態電子系統大樓 1樓116實驗室 (TEL:55666) 機台狀況 重要規格 使用氣體包含BCl3、Cl2、CF4、CHF3、Ar、O2、SF6,ICP RF最大 ...
    網址:www.nfc.nctu.edu.tw